半导体加工废水怎么处理方法|半导体加工废水处理案例
项目流程视频背景
该打包封装形式试验厂靠近珠半圆区域,主耍生产制造BGA、QFP等融合集成运放打包封装形式车辆。近年来产销量壮大,原始废水解决方法治理工艺治理操作系统超负载开机运行,且没有办法很好治理汇总的含氰废水解决方法治理工艺。工程技术投资1200万是开始变革,设计制作治理意识800吨/日。
废液组分及源
含氰焦化废水:电渡道工序呈现,氰化物浓度值30-50mg/L;
高氧化还原电位工业废水:来于催化镀工艺设计,氧化还原电位渗透压300-500mg/L;
巧妙焦化废水:封装类型的原材料擦拭存在,含不饱和树脂不饱和树脂等巧妙物;
腐蚀性废污水:各流程难以清理水搅拌而成。
净化处理施工生产工艺步骤
改变后的软件采取"物理预工作+生物化工作+高级工程师氧化反应"的工艺风格:
含氰废气整理:
酸性氯化法:分两极破氰,二次元氧化物反应ORP掌控在300-350mV,二次元氧化物反应ORP>600mV;
同屏监测方案:时时摄像头监控余氯和氰化物浓度值。
高化学需氧量工业废水办理:
吹脱塔预外理:pH调至11,气水比3000:1,氯离子快速清理率70%;
短程活性污泥细菌反活性污泥细菌:管理DO在0.5mg/L以内,省去碳源25%。
总合正确处理机系统:
水解反应过酸池:改善污水可生化模式性;
相处氧化反应池:组合式悬浮填料,气水比15:1;
更高效积累池:斜管塑料填料,漆层承载1.0m³/(㎡·h)。
程度外理单元尺寸:
Fenton脱色:H2O2添加量200mg/L,Fe²⁺80mg/L;
生态学几丁质酶炭滤池:进一点我们要除COD和饱和度。
结果英文特效
改进后软件系统正常运作不稳定性,留水COD<40mg/L、挥发酚<5mg/L、总氰化物<0.2mg/L,每一项指数公式具有问题的排放基准。吨水处理系统成本低从仅有的11.3元降落到9.3元,年正常运作手续费可节约约510万元。厌氧颗粒污泥形成量缩减30%,危险废弃物处里手续费应当减小。