某半导集成电路芯片生产加工生产厂在晶圆加工生产步骤中，操作硅烷做好硅外延性萌发，烟气洗洁塔会产生高酸度含硅污废气 。污废气 具备pH下跌大（2-11）、硅的含量高的显著特点，传统意义除理手段易造成硅垢赌塞方面。 焦化废水组成及来自 生产废水其主要部分为： 融化性硅酸盐 ：SiO₂含量达1000-1500mg/L 磷酸/氢被氧化钠 ：洗滌塔碱酸洗滌液残余 颗粒肥料硅 ：nm级SiO₂电解质溶液 痕量砷 ：原石杂质残渣带进 净化处理的流程图 多元化分为"多级结合+膜过滤程序+多效蒸发晶粒"生产技术： 一个结合 ：用CaO自动调节pH至4-5，转换硅酸钙析出，硅清掉率60%。 两级与 ：加Na₂CO₃将pH优化至9，进几步沉淀物剩余时间硅，电容串联用镁剂除砷。 超滤膜程序 ：0.02μm工业陶瓷膜过滤装置纳米级级硅科粒，通量可靠在80LMH。 MVR蒸馏器 ：精提高盐废污水，结晶体出Na₂SO₄副好产品，水使用率超90%。 以后视觉效果 总硅从1500mg/L降低5mg/L下类 砷占比从0.8mg/L低于0.01mg/L 系统化无积灰运转低于2年 每一年的的回收利用氢氧化钠钠纳米线约800吨